等离子体技术行业应用
等离子清洗/刻蚀机产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电场,用真空泵实现一定的真空度,随着气体愈来愈稀薄,分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长,受电场作用,它们发生碰撞而形成等离子体,这些离子的活性很高,柔性板清洗,其能量足以破坏几乎所有的化学键,在任何暴露的表面引起化学反应,不同气体的等离子体具有不同的化学性能,喷码清洗,如氧气的等离子体具有很高的氧化性,清洗,能氧化光刻胶反应生成气体,从而达到清洗的效果;腐蚀性气体的等离子体具有很好的各向异性,这样就能满足刻蚀的需要。利用等离子处理时会发出辉光,低温清洗,故称之为辉光放电处理。
热等离子体应用
如果需要向工件(需熔化的金属)输入更多的能量,可以用图1b的方式,用工件本身作正极。图1c结构可用于陶瓷的熔解。由辅助直流炬喷出气流,再由同轴三相交流电对等离子体继续加热。热等离子体射流进入旋转离心炉,与壁材料相互作用,使其熔化。图1d是高频 (0.5~15兆赫)无电极的等离子体装置。电能通过线圈耦合到等离子体。它的优点是可以加热各种气体(包括活性的或腐蚀性的气体),进入化学反应的杂质少,热电转换效率高。但是比较贵。